瀏覽量:
1000
MLL-C900
零售價
0.0
元
市場價
0.0
元
瀏覽量:
1000
產品編號
數量
-
+
庫存:
0
產品描述
參數
1.產品描述
MLL-C900無掩膜直寫光刻設備是自主研發生產的一款精 巧型光刻產品,廣泛應用多種微納光刻加工領域的研究與 生產,光刻最小線寬600nm,套刻對準精度500 nm器件 直寫光刻功能。適用于小批量、多品種的科研院所使用
2.產品特點
• 器件直寫光刻功能
• 3D結構曝光功能
• 掩膜版曝光功能
• 背面對準功能
• 可視化定點對準曝光功能
• 快速、精細兩種曝光模式
• 多種數據輸入格式(GDSⅡ/DXF/CIF/Gerber/BMP/TIFF)
• 基于Windows系統,用戶界面方便操作
3.技術規格
設備型號 | MLL-C900 | |
最小線寬[nm] | 600 | |
最高產能[mm²/min] | 250 | |
套刻精度[3σ,nm] | 500 | |
最大基板尺寸[inch] | 8(可拓展) | |
線寬均勻性[3σ,nm] | 150 | |
掃二維碼用手機看
上一個
LDW-X6
下一個
無