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MLL-C900
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產品描述
參數
1.產品描述
MLL-C900無掩膜直寫光刻設備是自主研發生產的一款精 巧型光刻產品，廣泛應用多種微納光刻加工領域的研究與 生產，光刻最小線寬600nm，套刻對準精度500 nm器件 直寫光刻功能。適用于小批量、多品種的科研院所使用
2.產品特點
• 器件直寫光刻功能
• 3D結構曝光功能
• 掩膜版曝光功能
• 背面對準功能
• 可視化定點對準曝光功能
• 快速、精細兩種曝光模式
• 多種數據輸入格式（GDSⅡ/DXF/CIF/Gerber/BMP/TIFF）
• 基于Windows系統，用戶界面方便操作
3.技術規格
| 設備型號 | MLL-C900 | |
| 最小線寬[nm] | 600 | |
| 最高產能[mm²/min] | 250 | |
| 套刻精度[3σ,nm] | 500 | |
| 最大基板尺寸[inch] | 8（可拓展） | |
| 線寬均勻性[3σ,nm] | 150 | |
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股票代碼：688630
